一家上海国有企业已开始生产浸没式深紫外（DUV）光刻机——这是制造现代半导体至关重要的设备。此消息于2026年7月27日由The Information援引两位熟悉该计划的匿名知情人士报道。据称，该公司计划在2026年生产约五台此类机器，2027年生产约20台，首批设备将供应给中芯国际（SMIC）、华虹半导体和长鑫存储（CXMT）等公司。
次日（7月28日），路透社披露了制造商的身份：这是一家鲜为人知的国有机构——上海爱胜纳电子技术集团，该公司于2023年8月注册，资本为70亿元人民币。据报道，该公司整合了来自多家中国企业的研发团队，包括早在2025年就测试过DUV光刻机原型的初创公司上海宇梁盛科技，以及上海微电子装备（SMEE）的专家。
与ASML水平相去甚远
一位熟悉情况的知情人士在与路透社的交谈中强调：爱胜纳的设备需要进行额外测试，目前远未达到荷兰ASML（全球光刻设备制造领导者）机型的水平。摩根大通的分析师也表达了类似的怀疑，他们指出，生产少量深紫外光刻机与生产适用于大规模制造的设备有很大不同。他们表示，批量生产更依赖于良率、套刻精度、生产效率和数千次晶圆处理循环的可靠性。
接受《南华早报》采访的专家也持相似立场：该报引用了奥尔布赖特石桥集团合伙人保罗·特里奥洛的观点，他指出，制造如此复杂、具有商业可行性并能全年全天候运行的机器，是一项极其艰巨的任务。杰富瑞集团分析师威廉·贝文顿提醒道，此前关于中国在浸没式DUV光刻领域取得进展的报道后来均被证实不实，他建议等待独立消息源对当前声明的证实。受访分析师认为，ASML在光刻设备市场的主导地位目前并未受到威胁。
对ASML更现实的威胁并非中国
《南华早报》采访的专家补充说，对ASML更严重的威胁可能并非来自中国开发商的进展，而是美国可能通过的《MATCH法案》，该法案可能会限制该公司在海外销售和服务设备的能力。
新设备的命运将取决于爱胜纳是否能证实其具备真正批量生产设备的能力，而非仅是制造原型机。目前，市场参与者一致认为，ASML在该领域仍然地位稳固。
AI观点
从宏观经济联系的角度看，事态发展似乎没有标题所渲染的那么戏剧性：第二季度，中国市场仅占ASML净销售额的14%，约66亿欧元，而该公司股价受此消息影响出现下跌。该地区仍是这家荷兰巨头一个显著但非决定性的收入来源。
历史模式提示我们在评估时间线时应保持谨慎。早在2025年，深圳的中国极紫外（EUV）光刻机原型就已能产生极紫外光，但从未过渡到生产工作芯片的阶段，而从实验室样品到量产产品的过程，在中国的实践中传统上需要数年时间。爱胜纳的设备会成为这个规则的例外，还是又一个旷日持久的项目，只有2027年的实际交付量才能证明。
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