冷静看待国产光刻机：5台设备交付，离挑战ASML还有多远？
国产浸没式DUV光刻机已开始小批量生产，今年计划交付约5台给中芯国际、华虹半导体和长鑫存储，2027年目标产量约20台。设备对应28纳米制程，国产化率超85%，但性能和可靠性仍落后于ASML，且未公开完整的测试参数与客户验收报告。
此次进展主要填补国内先进DUV设备的供应缺口，有助于提升成熟制程供应链安全。然而，DUV无法直接解决EUV所应对的先进制程经济性问题。国产EUV目前仍处于原型测试阶段，距离商业量产尚有较大差距。
与ASML年销超130台浸没式DUV的规模相比，国产设备5台的初始产量仅约其4%，且实际产能还取决于吞吐量、精度、稳定性等关键指标。当前进展标志着国产DUV进入客户验证阶段，是产业化的起点，但尚未形成大规模替代能力。
投资者应关注后续客户验收、设备稳定运行、重复订单等实际指标，不宜过早将技术进展等同于产业突破或投资回报。真正的产业转折需待量产规模、核心参数及部件国产化率持续提升。
marsbit07/28 02:21
