# Сопутствующие статьи по теме ГУФ

Новостной центр HTX предлагает последние статьи и углубленный анализ по "ГУФ", охватывающие рыночные тренды, новости проектов, развитие технологий и политику регулирования в криптоиндустрии.

Краткая история литографии: как один луч света шёл шестьдесят девять лет

В 2026 году появление пяти иммерсионных DUV-литографов китайского производства вызвало падение акций ASML на 6,3%, стерев с её капитализации 440 млрд долларов. Это событие поколебало идею о вечной зависимости Китая от импорта оборудования такого уровня. История литографии, начавшаяся с Джейя Ласропа в 1957 году, — это история не столько технологий, сколько выживания производителей благодаря клиентам. После первых контактных машин (США, 1960-е, Китай — 1966 г.) развитие шло через проекционные (PerkinElmer, 1973) и пошаговые (GCA, 1978) системы. В 1980-х доминирование США за десять лет сменилось гегемонией японских Nikon и Canon. Однако ключевой прорыв — иммерсионная литография — произошёл благодаря ASML и идее тайваньца Берни Лин (2002) о воде между линзой и пластиной, что обошло тупиковую гонку за 157 нм. Создание EUV-литографа (13,5 нм) потребовало 21 года, инвестиций в 60+ млррд евро и совместного финансирования от Intel, TSMC и Samsung. Итог: ASML владеет почти 100% рынка EUV и ~99% иммерсионного DUV. Суть этой 69-летней гонки: победитель определяется не тем, кто создаст прототип (это делали многие, включая Китай в 1966 и 1985), а тем, у кого есть клиенты, готовые десятилетиями терпеть несовершенные первые модели, делиться инженерами и финансировать разработку. США потеряли отрасль, отказавшись покупать свои машины. Япония проиграла, сделав неверную ставку на 157 нм. Голландская ASML выжила, потому что её клиенты — крупнейшие чипмейкеры мира — согласились «кормить» её всё время пути.

marsbit7 мин. назад

Краткая история литографии: как один луч света шёл шестьдесят девять лет

marsbit7 мин. назад

Китай запустил производство машин для печати чипов: почему эксперты не спешат с овациями

Государственная компания Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, основанная в 2023 году, начала производство иммерсионных DUV-литографических установок, критически важных для выпуска полупроводников. Планируется выпуск около пяти машин в 2026 году и примерно 20 — в 2027-м для поставки ведущим китайским производителям, таким как SMIC. Однако эксперты и аналитики выражают скептицизм. Они отмечают, что новые установки далеки по характеристикам от оборудования мирового лидера ASML, требуют длительного тестирования, а их способность к надежному серийному производству, необходимому для массового выпуска чипов, еще не подтверждена. Исторически Китаю требовались годы для перехода от лабораторных прототипов к коммерческим продуктам. Более серьезной угрозой для ASML называют не китайский прогресс, а возможные законодательные ограничения со стороны США (MATCH Act), которые могут затруднить ее международные продажи и обслуживание. Рынок считает, что доминирование ASML в обозримом будущем сохранится.

cryptonews.ru18 ч. назад

Китай запустил производство машин для печати чипов: почему эксперты не спешат с овациями

cryptonews.ru18 ч. назад

Спокойный взгляд на отечественные литографические машины: 5 устройств поставлены, как далеко до вызова ASML?

Автор статьи призывает к трезвой оценке новостей о запуске малосерийного производства китайского иммерсионного DUV-степпера. Сообщается о планах по производству около 5 единиц оборудования в этом году для таких клиентов, как SMIC, и о цели выпуска примерно 20 единиц к 2027 году. Устройство ориентировано на 28-нм технологический процесс. Автор подчеркивает, что эта новость отражает переход от разработки к начальной стадии внедрения у заказчика, но не означает полномасштабного коммерческого производства или решения всех проблем с литографией. Отмечается сохраняющийся значительный разрыв с ASML по производительности, надежности и, особенно, по технологиям EUV, которые находятся на стадии прототипа. Прогресс в DUV важен для создания второго источника поставок и повышения безопасности цепочки поставок для зрелых и некоторых продвинутых техпроцессов, но не решает проблем экономичности производства на узлах 5 нм и ниже. Ключевыми индикаторами для отслеживания в ближайшие годы будут успешная валидация оборудования клиентом, стабильность работы, ключевые параметры (пропускная способность, точность совмещения) и получение повторных заказов. Делается вывод, что, хотя прогресс обнадеживает, до радикального изменения глобальной конкурентной картины в литографии еще далеко, и не стоит преждевременно экстраполировать ограниченные текущие успехи на весь рынок или инвестиционные перспективы.

marsbitВчера 02:23

Спокойный взгляд на отечественные литографические машины: 5 устройств поставлены, как далеко до вызова ASML?

marsbitВчера 02:23

活动图片