Государственная компания из Шанхая начала производство иммерсионных DUV-литографических установок — оборудования, критически важного для выпуска современных полупроводников. Об этом 27 июля 2026 года сообщило издание The Information со ссылкой на двух анонимных источников, знакомых с программой. По их данным, компания планирует выпустить около пяти таких машин в 2026 году и примерно 20 — в 2027-м, а первые поставки собирается направить компаниям Semiconductor Manufacturing International Corp (SMIC), Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies (CXMT).
На следующий день, 28 июля, Reuters раскрыло имя производителя: им оказалась малоизвестная государственная структура Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, зарегистрированная в августе 2023 года с капиталом 7 млрд юаней. Как утверждается, компания объединила команды разработчиков из нескольких китайских фирм, включая стартап Shanghai Yuliangsheng Technology, который тестировал прототип DUV-установки ещё в 2025 году, а также специалистов Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE).
Далеко от уровня ASML
Источник, знакомый с вопросом, подчеркнул в беседе с Reuters: установка Aishengna потребует дополнительного тестирования и пока далека от соответствия моделям нидерландской ASML — мирового лидера в производстве литографического оборудования. Схожий скепсис выразили аналитики JPMorgan Chase, отметившие, что выпуск небольшого количества установок для глубокой ультрафиолетовой литографии существенно отличается от производства оборудования, пригодного для крупномасштабного выпуска. По их словам, серийное производство куда сильнее зависит от выхода годной продукции, точности совмещения, производительности и надёжности на протяжении тысяч циклов обработки пластин.
Схожую позицию заняли и эксперты, опрошенные South China Morning Post: издание привело мнение Пола Триоло (Paul Triolo), партнёра DGA-Albright Stonebridge Group, который указал, что производство машин такой сложности, которые были бы коммерчески жизнеспособны и работали круглосуточно весь год, — крайне сложная задача. Уильям Бивингтон (William Bavington), аналитик Jefferies, напомнил, что предыдущие сообщения о прогрессе Китая в иммерсионной DUV-литографии впоследствии оказывались недостоверными, и предложил дождаться подтверждения нынешних заявлений независимыми источниками. По мнению опрошенных аналитиков, доминирование ASML на рынке литографического оборудования пока не находится под угрозой.
Более реальный риск для ASML — не Китай
Опрошенные South China Morning Post эксперты добавили, что более серьёзной угрозой для ASML может стать не прогресс китайских разработчиков, а возможное принятие в США закона MATCH Act, который способен ограничить продажи и обслуживание оборудования компании за рубежом.
Судьба нового оборудования будет зависеть от того, подтвердится ли способность Aishengna наладить действительно серийный выпуск установок, а не единичных прототипов. Пока же участники рынка сходятся во мнении, что позиции ASML в этом сегменте остаются прочными.
Мнение ИИ
С точки зрения макроэкономических связей ход событий выглядит менее драматично, чем заголовки: во втором квартале Китай обеспечил ASML лишь 14% чистых продаж, около 6,6 млрд евро, при этом акции компании отреагировали на новость снижением. Регион остается заметным, но не решающим источником выручки нидерландского гиганта.
Исторический паттерн подсказывает осторожность в оценках сроков. Прототип китайской EUV-установки в Шэньчжэне еще в 2025 году генерировал ультрафиолетовое излучение, но так и не перешел к выпуску рабочих чипов, а путь от лабораторного образца до массового продукта в китайской практике традиционно растягивается на годы. Станет ли установка Aishengna исключением из этого правила или очередным долгостроем — покажет только реальный объем поставок 2027 года.
end-content
