Спокойный взгляд на отечественные литографические машины: 5 устройств поставлены, как далеко до вызова ASML?
Автор статьи призывает к трезвой оценке новостей о запуске малосерийного производства китайского иммерсионного DUV-степпера. Сообщается о планах по производству около 5 единиц оборудования в этом году для таких клиентов, как SMIC, и о цели выпуска примерно 20 единиц к 2027 году. Устройство ориентировано на 28-нм технологический процесс.
Автор подчеркивает, что эта новость отражает переход от разработки к начальной стадии внедрения у заказчика, но не означает полномасштабного коммерческого производства или решения всех проблем с литографией. Отмечается сохраняющийся значительный разрыв с ASML по производительности, надежности и, особенно, по технологиям EUV, которые находятся на стадии прототипа. Прогресс в DUV важен для создания второго источника поставок и повышения безопасности цепочки поставок для зрелых и некоторых продвинутых техпроцессов, но не решает проблем экономичности производства на узлах 5 нм и ниже.
Ключевыми индикаторами для отслеживания в ближайшие годы будут успешная валидация оборудования клиентом, стабильность работы, ключевые параметры (пропускная способность, точность совмещения) и получение повторных заказов. Делается вывод, что, хотя прогресс обнадеживает, до радикального изменения глобальной конкурентной картины в литографии еще далеко, и не стоит преждевременно экстраполировать ограниченные текущие успехи на весь рынок или инвестиционные перспективы.
marsbit18 ч. назад
