Tenang Menyikapi Lithografi Buatan Dalam Negeri: 5 Unit Peralatan Diserahkan, Seberapa Jauh Tantangan untuk ASML?
Penulis Hanya Hu, investor Silicon Valley dan penulis novel web, membahas kemajuan lithographer DUV perendaman domestik China. Perusahaan milik negara di Shanghai dikabarkan mulai memproduksi dalam jumlah kecil, dengan rencana pengiriman 5 unit pada tahun ini ke SMIC, Hua Hong Semiconductor, dan CXMT, serta target produksi sekitar 20 unit pada 2027. Perangkat ini diklaim untuk proses 28nm dengan tingkat lokalisasi >85% dan yield >90%.
Artikel menekankan bahwa ini adalah langkah awal dalam verifikasi pelanggan, bukan produksi massal penuh. Data kinerja seperti yield belum diverifikasi secara independen dan detailnya (misal, yield peralatan vs yield wafer) tidak jelas. Meski DUV dapat digunakan untuk node 7nm melalui multiple patterning, ia tidak menggantikan EUV yang diperlukan untuk proses 5nm/3nm yang lebih maju secara ekonomi.
Dibandingkan dengan ASML yang menjual 131 unit DUV perendaman pada 2025, 5 unit China setara dengan ~4% volume tahunan ASML. Kesenjangan signifikan tetap ada di EUV, di mana China memiliki purwarupa tetapi masih dalam pengujian, dengan target chip kerja pada 2028-2030.
Kemajuan ini adalah sinyal positif jangka panjang untuk rantai pasok peralatan domestik, membangun sumber pasokan kedua dan pengalaman teknik. Namun, ini belum mengubah lanskap kompetisi global. Titik balik industri yang sebenarnya akan ditandai oleh penerimaan pelanggan yang stabil, peningkatan pesanan berulang, peningkatan volume produksi, dan peningkatan parameter kinerja kunci. Analogi "Momen DeepSeek untuk lithographer" dinilai tidak tepat karena perbedaan mendasar antara inovasi perangkat lunak yang cepat dan pengembangan sistem fisik kompleks yang membutuhkan verifikasi ekstensif.
marsbit14j yang lalu
