Lịch sử tóm tắt máy khắc quang: Một chùm sáng đã đi 69 năm thế nào
Lịch sử máy quang khắc: Cuộc hành trình 69 năm của một tia sáng
Ngày 27/7/2026, tin tức về một công ty Trung Quốc ở Thượng Hải bắt đầu sản xuất máy quang khắc DUV ngâm nước đã khiến thị trường chứng khoán sụt giảm, xóa sổ khoảng 44 tỷ USD giá trị vốn hóa của ASML. Đây là phản ứng của thị trường với một giả định vỡ vụn: Trung Quốc sẽ không mãi phụ thuộc vào DUV của ASML.
Con đường phát triển máy quang khắc kéo dài suốt 69 năm. Năm 1957, thuật ngữ "photolithography" được Jay Lathrop đặt tên tại một phòng thí nghiệm của Mỹ. Giai đoạn đầu, công nghệ tiếp xúc với độ phân giải thô đã được Trung Quốc tiếp cận vào năm 1966, chỉ sau Mỹ 5 năm.
Sự thay đổi lớn diễn ra vào những năm 1970-1980 với máy chiếu (PerkinElmer) và máy bước (GCA). Tuy nhiên, các công ty Mỹ dần mất vị thế vào tay các hãng Nhật Bản như Nikon và Canon trong thập niên 1980, một phần vì chính các công ty chip Mỹ không ưu tiên mua thiết bị nội địa.
ASML, thành lập năm 1984 tại Hà Lan, bước ngoặt đến vào năm 2001 với nền tảng TWINSCAN và việc mua lại SVG của Mỹ. Quyết định táo bạo theo đuổi công nghệ ngâm nước (do TSMC đề xuất) thay vì con đường 157nm vào năm 2002 đã giúp ASML vượt mặt Nikon và thống trị thị trường DUV.
Để vượt qua giới hạn quang học, ngành công nghiệp đã đầu tư 21 năm cho công nghệ cực tím (EUV) với bước sóng 13.5nm. ASML chiến thắng nhờ sự hỗ trợ tài chính và cam kết dài hạn từ các khách hàng lớn là TSMC, Intel và Samsung.
Bài học xuyên suốt lịch sử không nằm ở khả năng tạo ra nguyên mẫu, mà ở việc ai sẵn sàng "nuôi dưỡng" công nghệ mới này qua những phiên bản đầu tiên còn nhiều hạn chế, với chu kỳ lên đến 10 năm. Mỹ thiếu sự kiên nhẫn đó, Nhật Bản đặt cược sai hướng, trong khi ASML - với ba khách hàng trung thành - đã đi hết hành trình. Đó không chỉ là hành trình của một tia sáng, mà là của sự hợp tác và lòng tin trong chuỗi cung ứng toàn cầu.
marsbit43 phút trước
