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区块律动發佈於 2009-09-24更新於 2024-09-09

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中国一家上海国企已启动沉浸式DUV光刻机的生产,这是制造现代半导体的关键设备。据匿名消息称,该公司计划在2026年生产约五台,2027年约二十台,首批设备将供应给中芯国际、华虹半导体和长鑫存储等企业。生产方为2023年注册、注册资本70亿元的上海艾盛纳电子科技集团,其整合了来自上海宇量昇科技及上海微电子装备等公司的研发团队。 然而,行业专家对此持谨慎态度。消息人士指出,艾盛纳的设备仍需大量测试,且远未达到行业领导者荷兰ASML的水平。分析师强调,小批量生产与具备大规模量产能力的商业可行设备存在本质区别,后者需要极高的良率、对准精度、产能和长期可靠性。专家提醒,过去关于中国在光刻领域取得突破的消息常被夸大,需等待独立验证。目前,ASML的市场主导地位并未受到实质性威胁。 专家认为,对ASML更现实的风险可能来自美国潜在的《MATCH法案》对其设备销售与服务的限制,而非中国当前的进展。艾盛纳设备的前景,最终取决于其能否实现真正的规模化量产,而非仅制造原型机。从宏观角度看,中国市场虽为ASML贡献了约14%的销售额,但并非决定性收入来源。历史经验表明,中国从实验室原型到稳定量产产品的过程往往耗时漫长,艾盛纳能否打破这一模式,需待2027年的实际交付情况来验证。

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